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工程名称：
工程时间：
工程介绍： |
中科院上海技物所红外光电工程
2004年3月
建设单位
— 中科院上海技术物理研究所
建筑面积
— 20576.56M2
净化面积
— 4000M2
净化级别
— 100级——100000级
工作范围
— 净化厂房
— 暖通空调
— 电气
— 管道
— 动力
— 工艺设备
开工/竣工
—2003.4.1.～2003.12
质量等级
—国家优质工程“鲁班奖”
工程地点
—上海市东体育会路440＃ |
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工程名称：
工程时间：
工程介绍： |
和舰科技工程
2000年
和舰科技（苏州）有限公司是台湾联电集团在中国大陆建设的具有国际主流技术水平的8英寸芯片生产线，总投资超过12亿美金。其中黄光区的洁净等级为0.1μm的0.1级，创下国内洁净厂房洁净等级的新高。我公司承担了该工程的洁净室调试与检测。 |
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工程名称：
工程时间：
工程介绍： |
天津摩托罗拉工程
1998年
该项目是世界著名跨国公司摩托罗拉独资在亚洲兴建的8英寸集成电路芯片厂,也是我国引进的第二条8英寸集成电路项目。该项目的净化厂房由我公司调试。 |
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工程名称：
工程时间：
工程介绍： |
上海华虹NEC909
1997年
中日合资上海华虹NEC微电子有限公司（909工程）是国家“九五”重点建设项目，也是我国投资额最高，建设规模最大，具有同期世界先进水平的第一条8英寸0.5微米（含扩展至0.35微米）深亚微米超大规模集成电路芯片生产线。总投资12亿美元，占地面积209000平方米，建筑面79900平方米，其中主厂房建筑面积39972平方米，净化面积13000平米，净化级别高达1级/0.1微米，主厂房由信息产业部电子第十一研究院设计，净化厂房系统机电安装由我公司承建，上海华虹NEC(909)净化工程获得了国家建筑企业最高奖“鲁班奖”，这也是净化工程获得的第一个国家优质工程。
我公司负责909项目的净化工程调试。
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工程名称：
工程时间：
工程介绍： |
首钢日电电子工程
1993年
首钢日电电子有限公司工程一期总投资260.25亿日元，建筑面积为22321m2，其生产规模为前工序1.2μm 6英寸硅片，为国内第一条6英寸生产线，月投片量8000片；后工序封装能力为年产IC 5000万块。该工程荣获“扬子杯”奖。
我公司负责该项目洁净室全方位的调试。 |
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工程名称：
工程时间：
工程介绍： |
华晶微电子908工程
1997年
华晶微电子工程为我国改革开放后为实现彩电国产化从日本东芝公司引进的3英寸5µm线性集成电路生产线，以后又陆续完成了配套分离器件工程、“七五”期间的科研生产联合体工程，建成了5英寸3µm生产线和5英寸2µm引导线工程，形成了从设计、制版到芯片封装测试的大型微电子科研生产集团。在“八五” 期间我公司又完成了国家专项集成电路工程（908工程）的净化系统调试,该工程见证了我国改革开放后微电子产业的发展历程，也是我公司在微电子领域的标志工程和开拓性工程。
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业绩展示 
